Titanyum hedefi

Titanyum hedefler, fiziksel buhar biriktirme (PVD) püskürtme işleminde kullanılan önemli hammaddelerdir. Yüksek enerjili parçacıklar yüzeylerini bombalayarak titanyum atomlarını veya iyonlarını püskürterek alt tabaka üzerinde yüksek saflıkta, yüksek performanslı bir titanyum veya titanyum bileşiği filmi oluşturur.

▸Temel Özellikler ve Teknik Özellikler:
1. Ultra Yüksek Saflık: %99,99'dan (4N) %99,9999'a (6N) kadar değişen saflık seviyelerinde mevcut olan bu hedefler, çeşitli uygulamaların sıkı kirlilik gereksinimlerini karşılar ve mükemmel iletkenlik, korozyon direnci ve biyouyumluluk sağlar.
2. Özelleştirilebilir Boyut ve Ağırlık: Tamamen özelleştirilmiş üretim desteklenmektedir. Maksimum boyut ve ağırlık, belirli müşteri ekipman odalarını, proses gereksinimlerini ve püskürtme gücünü karşılayacak şekilde tasarlanıp üretilebilir, böylece maksimum proses esnekliği sağlanır.
3. Profesyonel Ambalaj: Ahşap kasalar veya paletler içinde güvenli bir şekilde paketlenen bu yüksek değerli, yüksek hassasiyetli hedefler, endüstriyel nakliye standartlarını karşılayarak taşıma ve depolama sırasında hasardan, kirlenmeden ve deformasyondan korunur.

▸Temel Uygulama Alanları:
1. LCD Ekranlar (Sıvı Kristal Ekranlar): Performansı ve verimi görüntülemek için çok önemli olan ince film transistör (TFT) dizilerinde elektrotları (kapı, kaynak/drenaj gibi) veya bariyer katmanlarını yerleştirmek için kullanılır.
2. Tıbbi Cihazlar ve İmplantlar: Yapay eklemler, kemik vidaları, diş implantları ve kardiyovasküler stentler gibi tıbbi cihazların yüzeylerine yüksek saflıkta titanyum veya titanyum nitrür ince filmler yerleştirmek için kullanılır ve ürünlerin biyouyumluluğunu, aşınma direncini, korozyon direncini ve osseointegrasyonunu önemli ölçüde artırır.