CRNMC'nin Yüksek Saflıkta Titanyumu Hakkında Okumanız Gereken Bir Makale

Titanyum ürünlerinin yarı iletken, havacılık, yeni enerji ve diğer endüstrilerde sürekli uygulanmasıyla. Hammaddelere yönelik son ürün gereklilikleri de daha sıkı hale geliyor.

Yüksek Saflıkta Titanyum Sünger
Titanyum sünger için en yüksek ulusal standart olan 0A sınıfı, %99,8 titanyum saflığı gerektirir ve Chuangrun New Materials tarafından üretilen yüksek saflıkta titanyum süngerin saflığı %99,95'e ulaşabilir. Titanyum süngerin saflığını sürekli olarak iyileştirmek için titanyum tetraklorür ve diğer hammaddeleri daha da saflaştırmak için yükseltilmiş Kroll yöntemi üretim sürecini kullanıyoruz, aynı zamanda stabilitesinin kontrolüne de çok dikkat ediyoruz, böylece yüksek saflıkta titanyum sünger çeşitli alanlardaki ürünlerin geliştirilmesinde ve üretiminde uygulanabilir.

Elektrolitik Titanyum
Titanyum sünger, titanyum süngerden çıkarılması zor yabancı maddeleri çıkarmak için Chuangrun New Materials tarafından bağımsız olarak geliştirilen vakumlu erimiş tuz elektroliz ekipmanı aracılığıyla daha da elektrolize edilir ve saflaştırılır ve ardından çekirdek ürün elde edilir: elektrolitik titanyum. Saflığı %99,995'e ulaşabilir ve oksijen içeriği %0,01'den azdır. Ek olarak, daha fazla endüstrinin ihtiyaçlarını karşılamak için elektrolitik titanyum ürün formu özelleştirilebilir; kompakt elektrolitik titanyum ne kadar yaygın olarak kullanılırsa alaşım ekleme prosesi gereksinimleriyle o kadar uyumludur.

Yüksek Saflıkta Titanyum Külçe
Pek çok eritme işlemi arasında, Elektron Işınıyla Eritme (EB) ürünleri, iç kusurların bulunmaması ve yabancı maddelerin mükemmel şekilde uzaklaştırılması nedeniyle öne çıkmaktadır. Chuangrun New Materials'ın şu anda %99,9995'e varan saflıkta, <%0,01 oksijen içeriğine sahip titanyum külçelerin ve maksimum çapı 800 mm'ye kadar olan külçelerin üretiminde uzmanlaşmış yedi EB fırını vardır; bu, külçe döküm prosesinin müteakip deformasyonunu daha çeşitli hale getirir ve bitmiş ürün oranının işlenmesini önemli ölçüde artırır.